原子层沉积技术是指通过将气相前驱体交替脉冲通入反应室并在沉积基体表面发生气固相化学吸附反应形成薄膜的一种方法。原子层沉积系统可满足微电子、能源、信息等领域应用的薄膜制备需求。
1、尺寸及装载量参数
1.1机器尺寸: 不低于50cm×90cm×60cm;
1.2最大承载重量:不低于70kg
2、温度参数
2.1极限温度:350℃
2.2常用工作温度;100℃
2.3均温性:双区反应堆加热器:壁和基材同时加热
2.4控温方式:支持LabVIEW全自动程序控温
3、真空参数
3.1冷态极限真空度: 10-3-10-4Torr
3.2真空泵: Alcatel 2021C 1PHLV US防震脚
4、电源参数
4.1电源:50-60Hz,100-120V,泵110-220V,50-60Hz
4.2功率:1500W,泵550W
5、其它参数
5.1生长材料:氧化铝、氧化锌、氧化锡等氧化物
5.2均匀性:小于1% 1-sigma(Al2O3)。
1.送样要求:联系设备管理员告知样品详情并咨询。
2.预约说明
A.需要至少提前一天联系设备管理员完成预约;
B.由特定人员完成镀膜实验,其他人不得随意操作仪器。
3.预约时间
研究院内:工作日上午8:30-11:30,下午2:00-4:30(国家双休日、法定节假日除外)
研究院外:工作日上午8:30-11:30,下午2:00-4:30(国家双休日、法定节假日除外)